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LPKF ProtoLaser U4新型激光直写设备

2018-03-05 14:40 来源： LPKF LASER & ELECTRONICS AG

导读： LPKF ProtoLaser U4使用UV激光源，许多材料组在该波长下都很容易处理——并不需要额外添加其它工具、掩模或薄膜。

通用可用性

LPKF ProtoLaser U4使用UV激光源，许多材料组在该波长下都很容易处理——并不需要额外添加其它工具、掩模或薄膜，LPKF ProtoLaser U4在其前身的成功基础上，通过有针对性的创新扩展了其应用范围。

新设计

LPKF ProtoLaser U4采用全新的LPKF设计，将优美的外观与巧妙的操作和维护解决方案相结合，控制PC集成在ProtoLaser U4中。

稳定低能量范围

精致、敏感的工艺不仅不需要大量的激光能量，而且特别少。多重处理可在敏感基材上产生高度精确的结构，新型紫外激光光源能在较大区间范围内表现稳定，可安全地处理部分材料组和薄层。

过程跟踪

一个新的性能测量领域决定了焦点位置的实际激光性能并显示出来。在这里，LPKF已经满足了需要准确实际数据的客户的要求。

视觉系统

LPKF ProtoLaser U4使用最新设计的视觉系统，针对激光微观材料处理进行了优化，相机和图像识别过程探测要处理的基板上的任何基准点或几何结构，具备更高的分辨率和更快的检测算法加速了制造过程。

（1）出于紫外激光的宽处理范围

（2）更窄性能范围保持稳定

（3）底层水平的输出测量

由于其高度灵活性和快速处理，激光加工本身在竞争过程中脱颖而出，该激光器不使用对环境有害的化学物质，不需要面罩，并可将工具生产费用降至最低，激光器可以无接触地工作，因此也可以用于敏感材料。

ProtoLaser U4可以制造符合甚至超过工业加工质量的原型，它也适用于小批量生产和生产高变异的单个部件。

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